TriStar II Puls 全自動(dòng)比表面積與孔隙度分析儀直接處理吸附數(shù)據(jù)，通過(guò)簡(jiǎn)單的移動(dòng)計(jì)算條，一鍵式訪問(wèn)重要的參數(shù)，允許用戶自定義多達(dá)五份報(bào)告，可在屏幕上預(yù)覽，在一個(gè)易于使用的應(yīng)用程序中快速查看微孔、中孔和大孔分布，CO2可在低溫下進(jìn)入很小的微孔，而N2由于尺寸限制、鏈接問(wèn)題以及擴(kuò)散緩慢等原因進(jìn)入不了這些微孔，制備系統(tǒng)可為比表面和孔隙度分析制備樣品，它使用流動(dòng)加熱或者真空加熱達(dá)到去除樣品表面例如水和其他吸附氣體的目的。

技術(shù)參數(shù)：

1、溫度穩(wěn)定度：±0.1℃；

2、可控分辨力：0.1℃；

3、冷卻功率：0°C時(shí)約為80W；

4、溫度范圍：-5°C至75°C；

5、型號(hào)：TriStar II Puls。

產(chǎn)品特點(diǎn)：

1、功能性、操作性、使用性都是比較穩(wěn)定可靠；

2、雙模式操作校準(zhǔn)模式比較簡(jiǎn)單，一鍵校準(zhǔn)節(jié)省時(shí)間；

3、全鋼結(jié)構(gòu)一體成型，堅(jiān)固的設(shè)計(jì)方案和實(shí)際應(yīng)用步驟；

4、技術(shù)相當(dāng)成熟穩(wěn)定，不占空間，方便外出攜帶工作；

5、設(shè)備的應(yīng)用性簡(jiǎn)單，使用方便，無(wú)復(fù)雜流程。

TriStar II Puls 全自動(dòng)比表面積與孔隙度分析儀兩種去除吸附污染物的方法。除流動(dòng)氣體外，該樣品準(zhǔn)備單元提供真空，通過(guò)加熱和疏散來(lái)準(zhǔn)備樣品，每個(gè)站可以獨(dú)立操作，而不會(huì)影響其他正在處理的樣品。當(dāng)樣品完成所有脫氣步驟后，脫氣將自動(dòng)終止，Chiller Dewar為高表面積銅線圈構(gòu)成的封閉循環(huán)裝置，保證了杜瓦瓶與循環(huán)液體之間的高效熱交換。溫度則通過(guò)外配的循環(huán)浴來(lái)控制，CO2、N2和其他氣體吸附分析。該裝置能夠以小的電流需求量快速制冷且有效地維持溫度。